ヱビナ電化工業

最先端R&Dで業界をリードする次世代表面処理のパイオニア

SPEED PLUS

Go to English site

会社沿革

1946年11月

現相談役 海老名平吉が、東京都大田区大森に「海老名鍍金工場」を創業(1946年11月15日)。

1953年8月

資本金100万円の法人組合に改組し、社名を「ヱビナ電化工業株式会社」とする。同時に工場を現在の本社所在地に移転。

1957年12月

資本金を400万円に増資。

1960年9月

東京都大田区西糀谷3丁目に「蒲田工場」を建設し、硬質クロムめっきの拡充と、銅-ニッケル-クロムめっき自動化による生産力の増強、品質の向上を図る。オートバイのバックミラーへのトリニッケルめっきや水洗金具へのダブルニッケルめっきを手がける。

1964年2月

資本金を1,000万円に増資。

1967年8月

プラスチック素材にめっきする技術を開発し、蒲田工場にてプラスチック素材への銅-ニッケル-クロムめっき(装飾めっき)の営業を開始する。

1974年3月

より一層の生産合理化と品質の均一向上を図るため、全自動二重ニッケル-マイクロポーラスクロムめっき装置を新設。

1981年2月

本社にて、装飾めっきの営業を開始する。

1983年10月

技術部に研究開発室を設け、ニューセラミックス、シリコンウエハ、高性能ガラス、スーパーエンプラといった新素材へのめっきプロセスの開発を進めるべく、走査型電子顕微鏡、クリーンベンチ、純水製造装置を導入。

1985年3月

アルミナセラミックスへのめっきプロセスを開発し、量産体制を整える。

1986年2月

無電解めっき法による電磁波シールドプロセスを開発し、米国FCC、西独VDE、国内VCCIの規制に対応すべく量産体制を整える。パソコン用の電磁波シールドめっきの工業化に成功。

1988年10月

受注増大に対応するため、電磁波シールド用全自動めっきラインを増設。

1993年4月

マグネシウム合金への化成処理ラインを新設し、マグシールドの量産稼働を開始。

1994年7月

片面無電解シールドめっきラインを新設し、OSSシールドの量産開始。

1996年11月

創業50周年を迎え、海老名平吉が会長、海老名延郎が2代目社長に就任。

1997年12月

マグネシウム合金へのノンクロム化成処理の全自動ラインを導入。マグサーフ20の受注開始。

1999年8月

セラミックス基板へのパターンめっきの需要増に対応して、無電解ニッケル-金めっきラインを増設。量産体制の構築を図る。

1999年11月

ISOロゴ 品質マネジメントシステム(QMS)の国際規格ISO9001の認証を取得。
(認証事業所:本社)

2000年2月

ISOロゴ 環境マネジメントシステム(EMS)の国際規格ISO14001の認証を取得。
(認証事業所:本社)

2000年6月

電子プローブX線マイクロアナライザー(EPMA)を導入。

2002年7月

テクノマーク 蒲田工場跡地にテクノロジーセンター「テクノマーク」を建設し、めっき専門の研究開発拠点として11月より開発技術グループが移転。

2003年1月

テクノマークに元素組成比とめっき厚みが同時に測定できるLECO社のグロー放電発光分光分析装置(GDS)を日本初導入。

2003年6月

電磁波シールド全自動めっき装置を手動へ縮小し、金属代替全自動プラスチックめっき装置を導入(メタカーボシールドめっきプロセス)。

2004年3月

テクノマークに表面改質分析の為に、X線光電子分光分析装置(XPS)を導入。

2004年5月

デンドライトブラック 特殊形状めっきの研究を開始。デンドライトブラック、ポーラスニッケルめっき、ノジュールめっきを2004~2005年にかけて開発。

2004年9月

「第2回 勇気ある経営大賞 優秀賞」に選定。

2005年1月

ナノテクノロジー研究開発の為に、30万倍率で数ナノメーター微粒子が観察できるフィールドエミッション走査型電子顕微鏡(FE-SEM)を導入。

2005年4月

携帯電話へのめっき 携帯電話の普及に伴い、ボタン部品の装飾めっきやアンテナ部品への機能めっきを量産化。

2005年6月

マグネシウム合金への化成処理事業から撤退し、その跡エリアに、MEMSや燃料電池分野に対応できるAdvanced Technology Zone(AT zone)を新設し、12月より稼動を開始。

2005年12月

放熱板として使用されるAl-SiC基板に、はんだ濡れ性の付与を目的としためっきの量産ラインを構築。

2006年3月

「元気なモノ作り中小企業300社」に選定。

2007年6月

ワンセグチューナー向けのめっきを量産化。他の電子機器からの電磁ノイズ防止のため、電磁波シールドめっきを行う。

2007年12月

差圧・圧力伝送器の部品へのめっきを量産化。水素透過対策に貢献。

2008年7月

安倍元首相来訪 安倍晋三前首相(当時)が来訪。

2008年9月

水分抜けに優れる銅めっき浴「ブリック浴」を開発。

2009年6月

複写機の感熱ローラーの全自動めっきラインを導入。

2009年7月

スマートフォンのアンテナ部品へのめっきを量産化。

2009年8月

カンブリア宮殿出演 TV番組「カンブリア宮殿」に出演。電磁波シールドめっきや黒色めっきなど弊社が手がけてきた様々なめっき技術を紹介。

2009年12月

海老名 伸哉が3代目社長に就任。

2010年8月

菅直人首相来訪 菅直人首相(当時)が来訪。

2010年9月

第2テック 本社隣接地に試作開発の拠点として「第2テック」を竣工。試作開発課を発足。

2011年8月

タブレット用のタッチペンへの装飾めっきの量産を開始。サテン調のシルバー色を実現。

2012年2月

凄
黒ロゴ 黒色めっき「スゴクロ(凄黒)」を開発。

2012年3月

AGXXロゴ 水質抗菌システム「エー・ジー・ダブルエックス(AGXX)」の事業を開始。

2013年2月

受託分析事業を開始。

2014年4月

「とうきょう次世代育成サポート企業」に登録し、ワークライフバランスを推進。

2014年6月

3lmロゴ 3D配線形成技術「スリー・エルム(3LM, 3 Laser Metalization)」事業を開始。

2014年7月

TV番組「ガイアの夜明け」に出演。

2014年7月

ウォーターサーバー向けに抗菌めっきサンプルを提供。水の長期品質維持に活用。

2015年3月

ダイバーシティ経営2015ロゴ 「ダイバーシティ経営企業100選」に選定。

2016年3月

TV番組「技術立国にっぽんの財産!最先端テクノロジーで未来を変える」に出演。

2016年5月

本社「第1テック」の改装が終了。

ページトップへ

ヱビナ電化工業

Copyright (c) 2006- Ebina Denka Kogyo Co., Ltd All Rights Reserved.