ヱビナ電化工業

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nano tech 2014(1月29~31日)に出展致しました。

会期>>
2014年1月29日(水)~31日(金) 10:00~17:00

会場>>
東京ビックサイト(東京国際展示場)
東4~6ホール&会議楝 小間番号:4E-02

出展内容
LDS – レーザー加工とめっきの組み合わせで、3次元配線部品形成が可能
新黒色めっき『凄黒(すごくろ)』 ―可視領域1%以下を実現!光学部品への適用に―
AGXX(エー・ジー・ダブル・エックス) – 水浄化除菌システム
ステンレス材、チタン材への金ナノめっき – ナノレベルのめっき成膜で接触抵抗を低減

展示会の詳細情報は、以下をご確認下さい。
https://www.nanotechexpo.jp/main/

2014-01-09
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