■対象部品

ミクロン単位の膜厚コントロールを要求される精密機械部品

■対象素材

• アルミニウム、アルミニウム合金
• 鉄鋼
• ステンレス
• 銅、銅合金
• その他特殊素材

■めっき種類

• Ｎｉ−Ｐ合金めっき
• Ｎｉ−Ｂ合金めっき
• 耐食性黒色無電解Ｎｉめっき

■付与機能

• 高硬度 Ｎｉ−Ｐ＝ヴィッカース硬度５００Ｈｖ
• Ｎｉ−Ｂ＝ヴィッカース硬度８００Ｈｖ
• 高耐摩耗性
• 高精度（膜厚コントロール±１０％以内）
• 高耐食性
• ハンダ付け性
• ボンディング性

■皮膜物性

＿Ｎｉ−Ｐ

化学組織	Ni：90〜92％　P：8〜10％
溶融温度	890℃
電気抵抗	60μΩ/cm/cm2、400℃以上で加熱したものは1/3以下に低下。
熱膨張係数	13×10-6cm/cm・℃
熱伝導度	0.0105〜0.0135cal/cm・sec・℃
磁性	析出状態でほぼ非磁性。 熱処理すると磁性を生ずる。
均一性	形状如何によらず、つきまわりは完全。精度±10％以内
硬度	析出状態：500〜550Hv。400℃で熱処理：800〜1,000Hv。

＿Ｎｉ−B

組成	Ni 約99％　B 約1％
硬度	析出状態で800Hv（100g）
密度	8.6±0.1g/cm2;
溶融点	1350℃〜1390℃
熱膨張率	12×10-6cm/cm・℃
電気抵抗	15〜17μΩ-cm（7.6μm） 135〜140μΩ-cm（2.54μm）
ハンダ付け性	206℃、5秒（ロジンメタノールフラックス） 67-33共晶ハンダ 3カ月経過後でも232℃、5秒