昭和21年11月 現相談役海老名平吉が東京都大田区大森に海老名鍍金工場を創業。
28年8月 資本金100万円の法人組合に改組し、社名をヱビナ電化工業株式会社とする。同時に工場を現在の本社所在地に移転。
32年12月 資本金を400万円に増資。
35年9月 東京都大田区西糀谷３丁目に蒲田工場を建設し、硬質クロムめっきの拡充と、銅−ニッケル−クロムめっき自動化による生産力の増強 、品質の向上を図る。
39年2月 資本金を1,000万円に増資。
42年8月 プラスチック素材にめっきする技術を開発し、プラスチック素材への銅-ニッケル-クロムめっきの営業を開始する。
49年3月 より一層の生産合理化と品質の均一向上を図るため、全自動二重ニッケル−マイクロポーラスクロムめっき装置を新設。
58年10月 技術部に研究開発室を設け、ニューセラミックス、シリコンウエハ、高性能ガラス、スーパーエンプラといった新素材へのめっきプロセスの開発を進めるべく、走査型電子顕微鏡、クリーンベンチ、純水製造装置を導入。
60年3月 アルミナセラミックスへのめっきプロセスを開発し、量産体制を整える。
61年2月 無電解めっき法による電磁波シールドプロセスを開発し、米国FCC、西独VDE、国内VCCIの規制に対応すべく量産体制を整える。
63年10月 受注増大に対応するため、電磁波シールド用全自動めっきラインを増設する。
平成5年4月 マグネシウム合金への化成処理ラインを新設し、マグシールドの量産稼働を開始。
6年7月 片面無電解シールドめっきラインを新設し、OSSシールドの量産開始。
8年11月 創業５０周年を迎え、海老名平吉が会長、海老名延郎(平成１７年 信緒へ改名)が社長に就任。
9年12月 マグネシウム合金へのノンクロム化成処理の全自動ラインを導入。マグサーフ20の受注開始。
11年8月 セラミックス基板へのパターンめっきの需要増に対応して、無電解ニッケル−金めっきラインを増設。
11年11月 ＩＳＯ９００２の認証を取得。
12年2月 ＩＳＯ１４００１の認証を取得。
12年6月 電子プローブＸ線マイクロアナライザー(EPMA）を導入。
14年7月 蒲田工場跡地にテクノロジーセンター「テクノマーク」を建設し、めっき専門の試作・開発拠点として１１月より開発技術グループが移転。
15年1月 テクノマークに日本初の元素組成比とめっき厚みが同時に測定できるLECO社のグロー放電発光分光分析装置（GDS）を導入。
15年6月 電磁波シールド全自動めっき装置を手動へ縮小し、金属代替全自動プラスチックめっき装置を導入。（メタカーボシールドめっきプロセス）
16年3月 テクノマークに表面改質分析の為に、Ｘ線光電子分光分析装置（XPS）を導入。
17年1月 ナノテクノロジー研究開発の為に、３０万倍率で数ナノメーター微粒子が観察できるフィールドエミッション走査型電子顕微鏡（FE−SEM）を導入。
17年6月 マグネシウム合金への化成処理事業から撤退し、その跡エリアに、MEMSや燃料電池分野に対応できる Ａｄｖａｎｃｅｄ　Ｔｅｃｈｎｏｌｏｇｙ　Ｚｏｎｅ (AT ZONE)を新設し、１２月より稼動を開始。